Texas Instruments DLP650LNIR 0,65-NIR-WXGA-DMD
Das Texas Instruments DLP650LNIR 0,65-NIR-WSGA-Digital-Mikrospiegelarray (DMD) fungiert als Spatial-Light-Modulator (SLM), um Nahinfrarotlicht (NIR) zu lenken und Hochgeschwindigkeitsmuster für eine fortschrittliche Bildverarbeitung in Industrieanlagen zu erzeugen. Das thermisch effiziente Gehäuse ermöglicht Kunden die Kombination des DMDs mit einer leistungsstarken NIR-Laser-Beleuchtung für ein dynamisches digitales Drucken, Sinterprozesse und Beschriftungslösungen. Der DLP650LNIR, DLPC410, DLPR410 sowie DLPA200 Chipsatz bietet 1-Bit-Musterraten von bis zu 12.500 MHz mit pixelgenauer Steuerung, sodass Ingenieure im Vergleich zu herkömmlichen Steuerlasern innovativere und präzisere optische Systeme entwickeln können.Merkmale
- 1.280 × 800 (WXGA) Array mit > 1 Million Mikrospiegel
- 10,8 µm Mikrospiegelabstand
- ±12° Mikrospiegelkippwinkel (relativ zur flachen Anordnung)
- 0,65 Zoll diagonales Array für Eckenausleuchtung ausgelegt
- 0,5 °C/W Thermisches Widerstandsgehäuse mit hohem Wirkungsgrad
- Effiziente Lenkung von NIR-Licht (800 nm bis 2.000 nm)
- Bis zu 160 W Einstrahlung auf DMD
- Fensterübertragungwirkungsgrad > 98 % (950 nm bis 1.150 nm, Einzeldurchlauf, zwei Fensteroberflächen)
- Fensterübertragungwirkungsgrad > 93 % (850 nm bis 2.000 nm, Einzeldurchlauf, zwei Fensteroberflächen)
- Polarisierungsunabhängige Aluminium-Mikrospiegel
- 16-Bit, 2 x LVDS, 400-MHz-Eingangs-Datenbus
- Dedizierter DLPC410 Controller, DLPR410 PROM und DLPA200 Mikrospiegel-Treiber für einen zuverlässigen Hochgeschwindigkeitsbetrieb
- Binäre Musterraten von bis zu 12.500 Hz
- Globale, Einzel-, Dual- und Quad-Blockspiegel-Taktimpuls-Betriebsmodi (Reset)
Applikationen
- 3D-Drucken, selektives Lasersintern (SLS)
- Dynamische Graustufen-Laserbeschriftung und -Lasercodierung
- Industrielle Bedruckung, Flexodruck, digitale Plattenherstellung
- Reparatur und Ablation
- Spektroskopie
- Maschinelles 3D-Sehen und 3D-Biometrik
- Infrarot-Szenenprojektion
- Hyperspektrale Bildgebung
- Optische Schaltung
Vereinfachte Applikation
Veröffentlichungsdatum: 2019-02-08
| Aktualisiert: 2023-06-21
