STMicroelectronics N-Kanal-PowerMESH-Leistungs-MOSFETs

DieSTMicroelectronics N-Kanal-PowerMESH-Leistungs-MOSFETs werden mit dem konsolidierten Streifenlayout basierend auf dem MESH OVERLAY™ Prozess von STMicroelectronics hergestellt. Dieser Prozess bringt eine fortgeschrittene Produktfamilie von Hochspannungs-Leistungs-MOSFETs mit hervorragender Leistung hervor. Das optimierte Layout zusammen mit der proprietären Randabschlussstruktur bietet den niedrigsten RDS(on) pro Bereich, eine Gateladung und Schaltereigenschaften, die konkurrenzlos sind.

Merkmale

  • 100% avalanche tested
  • Intrinsic capacitances and Qg minimized
  • High-speed switching
  • Fully isolated TO-3PF plastic packages
  • Creepage distance path is 5.4mm (typ.) for TO-3PF

Applikationen

  • Switching applications
Veröffentlichungsdatum: 2016-02-15 | Aktualisiert: 2022-03-11